メルマガnano2biz第13号をお届けします。

東京でのオリンピック開催が決まりました。安倍内閣はアベノミクス第3の矢「日本再興戦略」に加えて、オリンピック開催を「第4の矢」に位置付け、デフレ脱却と経済成長を推進することができます。
　東京を中心としたインフラ整備や、より多くの観光客の誘致という具体的な目に見える目標ができたことにより、少なくとも今後7年間の日本経済の成長が期待されます。
　お陰様で、日本の空気が明るくなったような気がします。
第3の矢への取り組みがもっとポジティブになり、「これまでに経験したことが無い」景気回復につながってほしいものです。

個人情報について
(ﾌﾟﾗｲﾊﾞｼｰﾎﾟﾘｼｰ)

新規メルマガ配信会員募集！

配信停止

サイトご利用に
当たって

お問合わせ
nano2biz@nbci.jp

○新規メルマガ配信会員募集中

できるだけ多くの方にお申込みいただきたく、

ナノテクにご関心を持たれている方々へのご紹介をお願い致します。

お手数ですが、そうした方々への転送をお願いします。

新規メルマガ配信会員募集中

nano２biz News

◆技術開発動向

■　軽量で消費電力の少ないナノカーボン高分子アクチュエーターを開発

−カーボンナノチューブを用いて高耐久性・高保持性を実現−
産業技術総合研究所とアルプス電気は共同で、産総研開発の高純度スーパーグロースカーボンナノチューブをアクチュエーター電極に活用し、従来の約百倍の繰り返し耐久性と約数十倍の変位保持性を実現しました。軽量、超薄型、低消費電力という特徴を生かし、さまざまな製品への応用が期待されます。
http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2013/pr20130823/pr20130823.html


■　電子スピンの渦「スキルミオン」のサイズと渦の向きを自在に制御

−スキルミオンを記録ビットとする省電力メモリ素子の実現に前進−
理化学研究所、東京大学、物質・材料研究機構は、マンガン（Mn）、鉄（Fe）、ゲルマニウム（Ge）の化合物「Mn1-xFexGe」で、電子スピンが渦状に並んだ磁気構造体「スキルミオン」のサイズと渦の向きがマンガンと鉄の「Mn1-xFexGe」で、電子スピンが渦状に並んだ磁気構造体「スキルミオン」のサイズと渦の向きがマンガンと鉄の濃度比で制御できることを見いだしました。これはスキルミオンを記録ビットとして用いる省電力磁気メモリ素子の実現に重要な指針を与えるものです。
http://www.nims.go.jp/news/press/2013/09/p201309090.html


■　フジツボ防ぐ材料−東北大、塗料より割安に−

表題記事が8月5日の日経新聞に紹介されました。
　東北大学の室崎喬之助手らは、船底や発電所の取水口にくっついて問題となる海洋生物のフジツボが付きにくい材料を開発しました。ナノテクノロジーを使って表面に無数の穴を規則的に設け、取り付かないようにしています。塗料で防ぐ方法に比べて割安になります。船底などを模擬した実験を進め、実用化を目指しています。
　より詳しい記事は産業技術総合研究所「PEN」2月号を参照願います。
http://unit.aist.go.jp/nri/nano-plan/pen3/13_Feb_vol3_no11.pdf


■　ゴムをナノメートルレベルの精度で金型成形

−カーボンナノチューブを添加することで自在な表面加工が可能に−
産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センターは、ネットワーク構造の単層カーボンナノチューブ（CNT）をゴムに分散させることで、従来のゴムでは実現できなかった数百ナノメートルやマイクロメートルの精度でゴム表面を加工する技術を開発しました。
　従来の金型成形加工や切削加工などと比較して、低コストで簡便なため既存のゴム加工プロセスへの適用が容易となり、ネットワーク構造のカーボンナノチューブ添加でゴムの柔軟性と加工性が両立でき、濡れ性、密着性、光学特性を制御した高機能ゴム開発への応用が期待されています。
http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2013/pr20130828_2/pr20130828_2.html
http://www.jst.go.jp/pr/announce/20130828/index.html


■　ウエハー常温接合のための原子レベル表面平滑化プロセスを開発

−接合部のひずみを大幅に低減−
産業技術総合研究所・集積マイクロシステム研究センター大規模インテグレーション研究チームは、ネオン高速原子ビームを用いてシリコンの表面を平滑化することで接合部のひずみを大幅に低減させ、高い信頼性のマイクロデバイスが作製できる表面活性化常温接合プロセスを開発しました。
http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2013/pr20130828/pr20130828.html

◆セミナー等の紹介

■産総研オープンラボの開催

◇　産総研オープンラボ
産総研オープンラボは企業の経営層、研究者・技術者、大学、公的機関などの皆様のための催しです。産業技術総合研究所の最前線で、ニーズとシーズのマッチングを図る機会になると考えられます。

開催期間　2013年10月31日（木）、11月1日（金）
　・来場者登録：10/30（水）まで
　・ラボ見学予約：10/28（月）まで
開催場所　（独）産業技術総合研究所つくばセンター（茨城県つくば市）

◇産総研の500の研究テーマ、100研究室の紹介
　全国の研究拠点から集めた約500の研究テーマをパネル展示で紹介すると共に、つくばにある約100の研究室（ラボ）が公開されます。研究者自らが展示パネル、装置・設備を紹介しながら研究成果の内容をご説明し、議論の場が設けられます。
　産総研の産学官連携の仕組みや知的財産の取り扱い等について説明と共に、具体的な連携の相談や質問に対応が得られます。

◇特別企画
　特別企画として、つくばイノベーションアリーナの施設見学・展示、および福島再生可能エネルギー研究拠点が展示されます。

◇事前登録
・産総研オープンラボは、事前の来場者登録が必要です。
（受付中−来場者登録：10/30（水）まで）
・来場者登録に加え、ラボ見学、AISTechトーク、イブニングカフェには事前予約が必要です。（受付中−ラボ見学予約：10/28（月）まで）
　http://www.aist-openlab.jp/


■最先端研究開発支援プログラム最終成果報告会

◇産業技術総合研究所グリーン・ナノエレクトロニクスセンターからのご案内
　省エネルギー社会を実現し情報社会の継続的な発展を維持するためには、IT機器の消費電力を桁違いに低減する事が必須です。
当研究課題では、LSIの消費電力を1/10~1/100に低減する事を目的として、下記3つのコア技術の研究開発を実施してきました。
これまでの研究成果をご報告致しますので、ご参加の上ご意見頂ければ幸いです。

開催日時　2013年12月17日（火）10:00〜18:00
開催場所　イイノホール＆カンファレンスセンター（東京都千代田区内幸町2-1-1）

◇「グリーン・ナノエレクトロニクスのコア技術開発」
（1）低電圧動作CMOS（新材料・新構造／新動作原理 MOSFET）
（2）ナノカーボン材料の開発と応用
　　（CNT／グラフェンの合成と配線・排熱・デバイス応用）
（3）バックエンドデバイス（超格子相変化新材料の開発）
　http://www.gnc-sympo.jp/

このnano2bizは皆様方と双方向、意見・情報を交換しながら内容の向上に努める前提でスタートしています。製品・技術紹介でも研究等のパートナー募集でも何でも結構です。

◆【新規メルマガ配信会員募集中】
新規お申込みはこちらへ

Copyright (C) Nanotechnology Business Creation Initiative. All rights reserved.